CMOSウェーハ水洗浄機
- モデル
- SM-570
評価
製品の説明
● 高圧純水洗浄と水蒸気二流体洗浄によるカメラモジュール表面の埃のクリーニングには、ウェハ表面の埃などのCMOSオントロジーのホルダーを効果的に除去します。
● ヒューマンマシンインテグレーション、ワンボタン操作 、完全自動全面洗浄プロセス。
● 統合洗浄システム 。
● ステンレス製の機械キャビネット 、大規模な観測窓、実用的で美しい;
● 特殊設計の洗浄室、二次FFU空気ろ過、DI水および空気開放ループ排水は、クリーンプロセス全体にクリーンな環境を提供します。
● 低エネルギー消費と低ランニングノイズ。
● コンパクトな外観設計で、占有面積が少なく、設置が簡単です。
● 安定した安全性を 発揮して 、 計量 システムによる全システム監視 。
● フィルターを 自動で 掃除し、洗浄効果を確保します。
寸法 | 860 ( L)×1000 ( W)×1820 ( H)mm | クリーンメソッド | 水蒸気2流体 |
電源 | 380V 10A 50Hz | 乾燥方法 | 高速遠心脱水(イオン風補助) |
純水の清浄度 | ≧17MΩ | 純水フィルター精度 | 1μM |
純水圧 | ≧ 0.2MPa | エアフィルター精度 | 0.01μM |
圧縮空気容量 | ≧8メートル ³/分 | ダストクリーン径 | ≧1μM98%を超えます |
圧縮空気圧 | 0.4--0.75MPa | 最大純水消費量 | 10L /分 |
材料 | 316ミラーステンレススチール製ボディ | 空気消費量 | 5メートル³/分 |
重量 | 300KG | 最大作業台 | Φ570mm |
制御方法 | PLC +タッチスクリーン | 最大クリーンサイズ | 200 ( L ) ×140 ( W ) mm |
遠心清浄圧力 | 0.15-1.4MPa | 作業台数 | 0〜2000r /分 |